{"id":103620,"date":"2025-11-02T16:02:42","date_gmt":"2025-11-02T16:02:42","guid":{"rendered":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/?p=103620"},"modified":"2025-11-02T16:02:42","modified_gmt":"2025-11-02T16:02:42","slug":"asml-y-tsmc-son-duenas-y-senoras-de-los-semiconductores-una-startup-de-eeuu-cree-saber-como-acabar-con-ellos-con-rayos-x","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/?p=103620","title":{"rendered":"ASML y TSMC son due\u00f1as y se\u00f1oras de los semiconductores. Una startup de EEUU cree saber c\u00f3mo acabar con ellos: con rayos X"},"content":{"rendered":"
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Una misteriosa startup estadounidense llamada Substrate<\/a> ha hecho su aparici\u00f3n con un objetivo extraordinariamente ambicioso<\/a>: competir de t\u00fa a t\u00fa con ASML. La empresa neerlandesa se ha convertido en due\u00f1a y se\u00f1ora del segmento de m\u00e1quinas de fotolitograf\u00eda avanzadas para la fabricaci\u00f3n de chips, pero en Substrate creen tener la llave para cambiar las tornas<\/a>.<\/p>\n

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Por qu\u00e9 es importante<\/strong>. ASML no tiene competencia en el mercado desde que coloc\u00f3 su primer equipo de fotolitograf\u00eda UVE<\/a>. Lo de ASML es un monopolio de facto<\/em><\/a>: si un fabricante o dise\u00f1ador de chips quiere acceder a producir los modelos m\u00e1s avanzados, depende totalmente de la empresa holandesa. Nadie ha logrado toserle desde entonces, y hasta China, que intenta liberarse de esa dependencia, lo tiene realmente complicado<\/a>.\u00a0\u00a0<\/p>\n

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Substrate<\/strong>. As\u00ed se llama esta startup que ha desarrollado un nuevo equipo en el que usa aceleraci\u00f3n de part\u00edculas<\/a> para gestionar la litograf\u00eda. Esta tecnolog\u00eda permite grabar circuitos microsc\u00f3picos en obleas de silicio, y esta nueva empresa afirma que sus m\u00e1quinas podr\u00edan estar en plantas de fabricaci\u00f3n en EEUU en los dos pr\u00f3ximos a\u00f1os. Suena todo muy bien. Quiz\u00e1s demasiado, pero ya cuentan con fondos para intentarlo: acaban de levantar 100 millones de d\u00f3lares y entre los inversores est\u00e1 Peter Thiel<\/a>, cofundador de PayPal y actual CEO de Palantir.<\/p>\n

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Y ya puestos, intentar\u00e1n ayudar a crear la nueva TSMC<\/strong>. El reto es enorme: ASML ha invertido d\u00e9cadas y miles de millones de d\u00f3lares para perfeccionar sus equipos fotolitogr\u00e1ficos, y la complejidad de este mercado hace muy dif\u00edcil que empresas creadas desde cero puedan competir<\/a>. El objetivo de Substrate es doble, porque adem\u00e1s pretende lograr que sus m\u00e1quinas habiliten la fabricaci\u00f3n asequible de chips en EEUU<\/a>. O lo que es lo mismo: no solo quiere competir directamente con ASML, sino permitir que haya fabricantes estadounidenses que compitan con TSMC en suelo estadounidense. Ah\u00ed es nada.<\/p>\n

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La luz lo es todo<\/strong>. Al crear esos circuitos, algunas de las l\u00edneas que se crean son tan finas que sus dimensiones son a\u00fan m\u00e1s delgadas que la longitud de onda de la luz. Para solucionar ese problema ASML hacen uso de luz ultravioleta extrema (UVE)<\/a> mediante un complej\u00edsimo conjunto de lentes y espejos. Estas m\u00e1quinas generan un tipo de luz artificial que es capaz de grabar esas fin\u00edsimas l\u00edneas en los chips avanzados.\u00a0<\/p>\n

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Rayos X muy especiales<\/strong>. En Substrate plantean una idea distinta. Aunque no dan todos los detalles para evitar que alguien les pueda copiar, sus m\u00e1quinas usan litograf\u00eda de rayos X (LRX). Un acelerador de part\u00edculas crea una fuente de luz a partir de rayos X con una longitud de onda m\u00e1s corta, y eso permite utilizar dicho haz para crear chips avanzados. Las actuales m\u00e1quinas de Substrate son actualmente capaces de trabajar con nodos de 12 nan\u00f3metros, comparables a las m\u00e1quinas High NA EUV de ASML<\/a>: eso las equiparar\u00eda con las l\u00edneas de producci\u00f3n de chips m\u00e1s avanzadas del mundo.\u00a0<\/p>\n

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La tecnolog\u00eda LRX no es nueva<\/strong>. Esta t\u00e9cnica existe desde los a\u00f1os 70, pero hab\u00eda sido abandonada porque las t\u00e9cnicas de onda m\u00e1s larga (UVP y UVE) segu\u00edan escalando sin necesidad de superar los grandes desaf\u00edos t\u00e9cnicos de RXL. En substrate parecen tener precisamente la soluci\u00f3n a esos problemas, que se centraban en la \u00f3ptica y en la necesidad de usar aceleradores de part\u00edculas masivos como fuente de luz.\u00a0<\/p>\n

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Y prometen un ahorro de costes brutal<\/strong>. En Substrate sostienen que su equipo LRX tendr\u00e1 un coste estimado de unos 40 millones de d\u00f3lares, frente a los 400 millones del High-NA EUV de ASML. Adem\u00e1s habr\u00eda otra revoluci\u00f3n asociada: la posibilidad de realizar el llamado patronaje de exposici\u00f3n \u00fanica a resoluciones avanzadas (2 nm, 1 nm y m\u00e1s all\u00e1) eliminando as\u00ed los costes adicionales del multipatterning<\/em> (exposiciones m\u00faltiples). De cumplir esa promesa, el coste de producci\u00f3n de obleas avanzadas ser\u00eda un 50% inferior seg\u00fan Substrate.<\/p>\n

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Pero<\/strong>. Por supuesto, una cosa es decirlo y otra hacerlo. La precisi\u00f3n del proceso, explican en Semianalysis<\/a>, es un obst\u00e1culo monumental. La transferencia de patrones (ir \u00abde la luz al silicio\u00bb\u00a0casi \u00abtall\u00e1ndolo\u00bb) sigue siendo problem\u00e1tica, y entre los retos est\u00e1n el solucionar la rugosidad de los bordes de los patrones impresos, que queda amplificada durante el grabado.\u00a0<\/p>\n

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Tambi\u00e9n est\u00e1 el problema del ruido estoc\u00e1stico (shot noise, fluctuaciones aleatorias en los fotones que causan defectos) y la borrosidad o desenfoque de electrones secundarios inherente a la alta energ\u00eda de los rayos X, que limita la resoluci\u00f3n fundamentalmente. Tambi\u00e9n hay de momento problemas con la superposici\u00f3n (overlay) de 1,6 nm, a\u00fan alta para procesos m\u00e1s avanzados donde se buscan 1,0 o 1,2 nm.\u00a0<\/p>\n

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En Xataka |\u00a0AMD es hoy un gigante de los semiconductores. En sus inicios era algo mucho m\u00e1s humilde: una copia descarada de Intel<\/a><\/p>\n<\/p><\/div>\n

Ver fuente<\/a><\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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