{"id":4238,"date":"2024-05-30T02:48:11","date_gmt":"2024-05-30T02:48:11","guid":{"rendered":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/tecnologia\/asml-planea-fabricar-un-equipo-de-litografia-con-prestaciones-de-ciencia-ficcion-la-maquina-hyper-na\/"},"modified":"2024-05-30T02:48:11","modified_gmt":"2024-05-30T02:48:11","slug":"asml-planea-fabricar-un-equipo-de-litografia-con-prestaciones-de-ciencia-ficcion-la-maquina-hyper-na","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/?p=4238","title":{"rendered":"ASML planea fabricar un equipo de litograf\u00eda con prestaciones de ciencia ficci\u00f3n: la m\u00e1quina Hyper-NA"},"content":{"rendered":"<div>\n<p>La m\u00e1quina de fabricaci\u00f3n de chips m\u00e1s avanzada que existe ahora mismo es el equipo de litograf\u00eda de <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/esta-maquina-fabricacion-chips-avanzada-planeta-espectacular-su-complejidad-roza-inaudito\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">ultravioleta extremo (UVE) y alta apertura<\/a> (High-NA) que produce la compa\u00f1\u00eda neerlandesa ASML. Por el momento solo Intel tiene uno de estos equipos <strong>en fase de pruebas<\/strong> en <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/asml-envia-a-intel-equipo-fotolitografia-avanzado-mundo-mazazo-para-ambiciones-china\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">su planta de Hillsboro<\/a> (EEUU), aunque ASML prev\u00e9 entregar a sus clientes anualmente a partir de 2025 unos 20 equipos de este tipo con un prop\u00f3sito: poner en sus manos la posibilidad de producir chips de 2 nm y m\u00e1s all\u00e1.<\/p>\n<p><!-- BREAK 1 --> <\/p>\n<p>Los ingenieros de esta compa\u00f1\u00eda de Pa\u00edses Bajos han invertido una d\u00e9cada en el desarrollo de la tecnolog\u00eda necesaria para poner a punto esta m\u00e1quina. Presumiblemente su vida \u00fatil ser\u00e1 prolongada, considerando este par\u00e1metro como el tiempo durante el que esta m\u00e1quina mantiene su competitividad desde un punto de vista estrictamente tecnol\u00f3gico y contin\u00faa siendo rentable utilizarla. Deber\u00eda mantenerse en primera l\u00ednea m\u00e1s de una d\u00e9cada, pero cabe la posibilidad de que su sucesora llegue antes de lo previsto.<\/p>\n<p><!-- BREAK 2 --><\/p>\n<div id=\"ez-toc-container\" class=\"ez-toc-v2_0_81 counter-hierarchy ez-toc-counter ez-toc-grey ez-toc-container-direction\">\n<div class=\"ez-toc-title-container\">\n<p class=\"ez-toc-title\" style=\"cursor:inherit\">Tabla de Contenido<\/p>\n<span class=\"ez-toc-title-toggle\"><a href=\"#\" class=\"ez-toc-pull-right ez-toc-btn ez-toc-btn-xs ez-toc-btn-default ez-toc-toggle\" aria-label=\"Alternar tabla de contenidos\"><span class=\"ez-toc-js-icon-con\"><span class=\"\"><span class=\"eztoc-hide\" style=\"display:none;\">Toggle<\/span><span class=\"ez-toc-icon-toggle-span\"><svg style=\"fill: #999;color:#999\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\" class=\"list-377408\" width=\"20px\" height=\"20px\" viewBox=\"0 0 24 24\" fill=\"none\"><path d=\"M6 6H4v2h2V6zm14 0H8v2h12V6zM4 11h2v2H4v-2zm16 0H8v2h12v-2zM4 16h2v2H4v-2zm16 0H8v2h12v-2z\" fill=\"currentColor\"><\/path><\/svg><svg style=\"fill: #999;color:#999\" class=\"arrow-unsorted-368013\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\" width=\"10px\" height=\"10px\" viewBox=\"0 0 24 24\" version=\"1.2\" baseProfile=\"tiny\"><path d=\"M18.2 9.3l-6.2-6.3-6.2 6.3c-.2.2-.3.4-.3.7s.1.5.3.7c.2.2.4.3.7.3h11c.3 0 .5-.1.7-.3.2-.2.3-.5.3-.7s-.1-.5-.3-.7zM5.8 14.7l6.2 6.3 6.2-6.3c.2-.2.3-.5.3-.7s-.1-.5-.3-.7c-.2-.2-.4-.3-.7-.3h-11c-.3 0-.5.1-.7.3-.2.2-.3.5-.3.7s.1.5.3.7z\"\/><\/svg><\/span><\/span><\/span><\/a><\/span><\/div>\n<nav><ul class='ez-toc-list ez-toc-list-level-1 ' ><li class='ez-toc-page-1 ez-toc-heading-level-2'><a class=\"ez-toc-link ez-toc-heading-1\" href=\"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/?p=4238\/#ASML_se_plantea_empezar_a_trabajar_en_su_proximo_equipo_de_litografia_Hyper-NA\" >ASML se plantea empezar a trabajar en su pr\u00f3ximo equipo de litograf\u00eda Hyper-NA<\/a><\/li><\/ul><\/nav><\/div>\n<h2><span class=\"ez-toc-section\" id=\"ASML_se_plantea_empezar_a_trabajar_en_su_proximo_equipo_de_litografia_Hyper-NA\"><\/span>ASML se plantea empezar a trabajar en su pr\u00f3ximo equipo de litograf\u00eda Hyper-NA<span class=\"ez-toc-section-end\"><\/span><\/h2>\n<p>ASML ha anunciado durante la conferencia ITF World 2024 que sus ingenieros han alcanzado un nuevo r\u00e9cord de densidad de transistores durante el proceso de fabricaci\u00f3n de circuitos integrados. Han empleado, c\u00f3mo no, su primera m\u00e1quina de litograf\u00eda UVE de alta apertura. Este hito nos anticipa que este equipo deber\u00eda ser capaz de trabajar con un extraordinario nivel de integraci\u00f3n. Sin embargo, esta no es la noticia m\u00e1s sorprendente del evento. Y es que Martin van den Brink ha confirmado que ha propuesto a sus compa\u00f1eros de ASML empezar a trabajar en el equipo de litograf\u00eda llamado a suceder a la m\u00e1quina UVE de alta apertura.<\/p>\n<p><!-- BREAK 3 --> <\/p>\n<div class=\"article-asset article-asset-normal article-asset-center\">\n<div class=\"desvio-container\">\n<div class=\"desvio\">\n<div class=\"desvio-figure js-desvio-figure\">\n    <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/investigacion\/este-record-fusion-nuclear-nos-invita-a-algo-emocionante-a-mirar-iter-optimismo-que-nunca\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\"><br \/>\n     <img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" alt=\"Este r\u00e9cord en fusi\u00f3n nuclear nos invita a algo emocionante: a mirar hacia ITER con m\u00e1s optimismo que nunca\" width=\"375\" height=\"142\" src=\"https:\/\/i.blogs.es\/2651e9\/west-ap\/375_142.jpeg\"\/><br \/>\n    <\/a>\n   <\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/div>\n<p>Martin van den Brink no es un ejecutivo cualquiera. Fue presidente y director de tecnolog\u00eda de ASML, por lo que no cabe duda de que sabe qu\u00e9 tiene entre manos. Actualmente ejerce como asesor, y si ha decidido defender en p\u00fablico la posibilidad de que la compa\u00f1\u00eda para la que trabaja comience a desarrollar <strong>un equipo de litograf\u00eda a\u00fan m\u00e1s avanzado<\/strong> que la m\u00e1quina UVE de alta apertura es porque con toda seguridad este plan ya est\u00e1 sobre la mesa. Adem\u00e1s, a EEUU y sus aliados les interesa dilatar la ventaja tecnol\u00f3gica que sostienen sobre China en materia de fabricaci\u00f3n de chips, por lo que su benepl\u00e1cito no admite discusi\u00f3n.<\/p>\n<p><!-- BREAK 4 --><\/p>\n<div class=\"article-asset-summary article-asset-small article-asset-right\">\n<div class=\"asset-content\">\n<p class=\"sumario_derecha\">La apertura num\u00e9rica pasar\u00e1 del valor 0,33 de las m\u00e1quinas UVE y del valor 0,55 de los equipos UVE de alta apertura a 0,75 en la m\u00e1quina Hyper-NA<\/p>\n<\/p><\/div>\n<\/div>\n<p>Para desarrollar el equipo de <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/que-podemos-esperar-maquina-litografia-avanzada-mundo-que-asml-acaba-entregar-a-intel\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">litograf\u00eda UVE de alta apertura<\/a> los ingenieros de ASML han puesto a punto una arquitectura \u00f3ptica muy avanzada que tiene una apertura de 0,55 frente al valor de 0,33 que tienen los equipos de litograf\u00eda UVE de primera generaci\u00f3n. Este refinamiento de la \u00f3ptica permite transferir a la oblea patrones de mayor resoluci\u00f3n, de ah\u00ed que sea posible fabricar chips empleando tecnolog\u00edas de integraci\u00f3n m\u00e1s avanzadas que las utilizadas actualmente en los nodos de 3 nm.<\/p>\n<p><!-- BREAK 5 --><\/p>\n<p>En el art\u00edculo que dedicamos al <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/investigacion\/criterio-rayleigh-explicado-proximidad-limite-fisico-silicio-nos-recuerda-que-esta-ecuacion-nos-dice-donde-podemos-llegar-1\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">criterio de Rayleigh<\/a> explicamos con mucho detalle en qu\u00e9 consiste el par\u00e1metro &#8216;NA&#8217; (<em>numerical aperture<\/em>), pero en este texto nos basta saber que esta variable identifica <strong>el valor de apertura de la \u00f3ptica<\/strong> utilizada por el equipo litogr\u00e1fico. En este contexto este par\u00e1metro refleja esencialmente lo mismo que el valor de apertura cuando hablamos de <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/basics\/iso-apertura-obturacion-todo-controles-manuales-basicos-fotografia\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">la \u00f3ptica de una c\u00e1mara de fotos<\/a>, por lo que condiciona la cantidad de luz que los elementos \u00f3pticos <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/investigacion\/el-fin-de-la-maldicion-de-rayleigh-o-como-la-resolucion-de-nuestras-camaras-va-a-dispararse-hasta-el-infinito\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">son capaces de recoger<\/a>. Como podemos intuir, cuanta m\u00e1s luz recaben, mejor.<\/p>\n<p><!-- BREAK 6 --> <\/p>\n<p>Martin van den Brink ha confirmado que el equipo de litograf\u00eda UVE Hyper-NA (hiperalta apertura) en el que, seg\u00fan \u00e9l, ASML ya se encuentra en disposici\u00f3n de trabajar, emplear\u00e1 la misma longitud de onda de la luz usada en las m\u00e1quinas de litograf\u00eda UVE y UVE de alta apertura (13,5 nm). Sin embargo, la apertura num\u00e9rica pasar\u00e1 del valor 0,33 de las m\u00e1quinas UVE y del valor 0,55 de los equipos UVE de alta apertura a 0,75 en la m\u00e1quina Hyper-NA. Como acabamos de ver, este refinamiento permite transferir a la oblea patrones de mayor resoluci\u00f3n, por lo que el equipo de hiperalta apertura se sumergir\u00eda de lleno en <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/pro\/nanometros-a-angstrom-que-intel-quiere-cambiar-termino-que-se-mide-avance-semiconductores\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">la escala de los \u00e1ngstroms<\/a>.<\/p>\n<p><!-- BREAK 7 --><\/p>\n<p>Todav\u00eda sabemos algo m\u00e1s. Algo importante. Presumiblemente el primer equipo de litograf\u00eda UVE Hyper-NA <strong>estar\u00e1 listo en 2033<\/strong>, por lo que los ingenieros de ASML invertir\u00e1n menos tiempo en ponerlo a punto que en la m\u00e1quina UVE de alta apertura. Al fin y al cabo su sustrato tecnol\u00f3gico es esencialmente el mismo. Por el momento no tenemos ninguna pista s\u00f3lida que desvele cu\u00e1nto costar\u00e1 una m\u00e1quina de litograf\u00eda tan sofisticada, pero sabemos que un solo equipo UVE de alta apertura como el que tiene Intel en su f\u00e1brica de Hillsboro cuesta <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/esta-maquina-fabricacion-chips-avanzada-planeta-espectacular-su-complejidad-roza-inaudito\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">350 millones de euros<\/a>. Con toda seguridad una m\u00e1quina UVE Hyper-NA ser\u00e1 todav\u00eda m\u00e1s cara.<\/p>\n<p><!-- BREAK 8 --><\/p>\n<p>Imagen | <a rel=\"noopener, noreferrer\" href=\"https:\/\/www.asml.com\/en\/news\/media-library\" data-id=\"noopener, noreferrer\" target=\"_blank\">ASML<\/a><\/p>\n<p>M\u00e1s informaci\u00f3n | <a rel=\"noopener, noreferrer\" href=\"https:\/\/www.tomshardware.com\/pc-components\/cpus\/asml-sets-new-chipmaking-density-record-proposes-hyper-na-tools-and-radical-euv-speed-boosts\" target=\"_blank\">Tom&#8217;s Hardware<\/a><\/p>\n<p>En Xataka | <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/nuevo-equipo-litografia-asml-divide-a-fabricantes-chips-tsmc-se-plantea-no-usarlo-2030\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">El nuevo equipo de litograf\u00eda de ASML divide a los fabricantes de chips. TSMC se plantea no usarlo hasta 2030<\/a><\/p>\n<\/p><\/div>\n<p><a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/asml-planea-fabricar-equipo-litografia-prestaciones-ciencia-ficcion-maquina-hyper-na\" class=\" target=\" title=\"ASML planea fabricar un equipo de litograf\u00eda con prestaciones de ciencia ficci\u00f3n: la m\u00e1quina Hyper-NA\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">Ver fuente<\/a><\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"<p>La m\u00e1quina de fabricaci\u00f3n de chips m\u00e1s avanzada que existe ahora mismo es el equipo de litograf\u00eda de ultravioleta extremo (UVE) y alta apertura (High-NA) que produce la compa\u00f1\u00eda neerlandesa ASML. Por el momento solo Intel tiene uno de estos equipos en fase de pruebas en su planta de Hillsboro (EEUU), aunque ASML prev\u00e9 entregar [&hellip;]<\/p>\n","protected":false},"author":2,"featured_media":4239,"comment_status":"open","ping_status":"closed","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"footnotes":""},"categories":[9],"tags":[],"class_list":["post-4238","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","hentry","category-tecnologia"],"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=\/wp\/v2\/posts\/4238","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=\/wp\/v2\/users\/2"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=%2Fwp%2Fv2%2Fcomments&post=4238"}],"version-history":[{"count":0,"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=\/wp\/v2\/posts\/4238\/revisions"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=\/wp\/v2\/media\/4239"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=%2Fwp%2Fv2%2Fmedia&parent=4238"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=%2Fwp%2Fv2%2Fcategories&post=4238"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/index.php?rest_route=%2Fwp%2Fv2%2Ftags&post=4238"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}