{"id":44604,"date":"2025-01-17T14:22:11","date_gmt":"2025-01-17T14:22:11","guid":{"rendered":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/tecnologia\/ya-sabemos-como-sera-la-proxima-generacion-de-equipos-de-litografia-pondra-en-nuestras-manos-chips-que-ahora-son-inconcebibles\/"},"modified":"2025-01-17T14:22:11","modified_gmt":"2025-01-17T14:22:11","slug":"ya-sabemos-como-sera-la-proxima-generacion-de-equipos-de-litografia-pondra-en-nuestras-manos-chips-que-ahora-son-inconcebibles","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/?p=44604","title":{"rendered":"Ya sabemos c\u00f3mo ser\u00e1 la pr\u00f3xima generaci\u00f3n de equipos de litograf\u00eda. Pondr\u00e1 en nuestras manos chips que ahora son inconcebibles"},"content":{"rendered":"<div>\n<p>La m\u00e1quina de fabricaci\u00f3n de circuitos integrados m\u00e1s avanzada que existe ahora mismo es el equipo de <a class=\"text-outboundlink\" href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/esta-maquina-fabricacion-chips-avanzada-planeta-espectacular-su-complejidad-roza-inaudito\" data-vars-post-title=\"Esta es la m\u00e1quina de fabricaci\u00f3n de chips m\u00e1s avanzada del planeta. Es espectacular y su complejidad roza lo inaudito\" data-vars-post-url=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/esta-maquina-fabricacion-chips-avanzada-planeta-espectacular-su-complejidad-roza-inaudito\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">litograf\u00eda de ultravioleta extremo<\/a> (UVE) y alta apertura que <strong>produce la empresa neerlandesa ASML<\/strong>. Esta complej\u00edsima m\u00e1quina pesa tanto como dos Airbus A320 e incorpora m\u00e1s de 100.000 piezas, 3.000 cables, 40.000 pernos, y tambi\u00e9n m\u00e1s de 2 km de conexiones el\u00e9ctricas. Esta compa\u00f1\u00eda de Pa\u00edses Bajos prev\u00e9 entregar a sus clientes anualmente a partir de 2025 unos 20 equipos de este tipo con un prop\u00f3sito: poner en sus manos la posibilidad de <a class=\"text-outboundlink\" href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/carrera-chips-2-nm-arrancara-2025-sera-encarnizada-todas\" data-vars-post-title=\"La carrera de los chips de 2 nm arrancar\u00e1 en 2025. Y ser\u00e1 la m\u00e1s encarnizada de todas \" data-vars-post-url=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/carrera-chips-2-nm-arrancara-2025-sera-encarnizada-todas\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">producir chips de 2 nm<\/a> y m\u00e1s all\u00e1.<\/p>\n<p><!-- BREAK 1 --> <\/p>\n<p>Uno de los componentes cr\u00edticos de los equipos de fotolitograf\u00eda de ultravioleta extremo, que, por el momento, <a class=\"text-outboundlink\" href=\"https:\/\/www.xataka.com\/componentes\/guerra-nanometros-no-pelean-solo-intel-tsmc-globalfoundries-samsung-quien-gobierna-sombra-asml\" data-vars-post-title=\"En la guerra de los nan\u00f3metros no pelean solo Intel, TSMC, GlobalFoundries y Samsung; quien gobierna en la sombra es ASML\" data-vars-post-url=\"https:\/\/www.xataka.com\/componentes\/guerra-nanometros-no-pelean-solo-intel-tsmc-globalfoundries-samsung-quien-gobierna-sombra-asml\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">solo tiene ASML<\/a>, es el l\u00e1ser pulsado de di\u00f3xido de carbono que se emplea para alimentar la fuente de luz de ultravioleta extremo. Este dispositivo fue desarrollado por ASML y el Laboratorio Nacional Lawrence Livermore (LLNL), de EEUU. De hecho, esta \u00faltima organizaci\u00f3n trabaja en el desarrollo de fuentes de luz de ultravioleta extremo basadas en plasma desde 1997, por lo que es una de las colaboradoras m\u00e1s relevantes de la compa\u00f1\u00eda europea.<\/p>\n<p><!-- BREAK 2 --><\/p>\n<div id=\"ez-toc-container\" class=\"ez-toc-v2_0_81 counter-hierarchy ez-toc-counter ez-toc-grey ez-toc-container-direction\">\n<div class=\"ez-toc-title-container\">\n<p class=\"ez-toc-title\" style=\"cursor:inherit\">Tabla de Contenido<\/p>\n<span class=\"ez-toc-title-toggle\"><a href=\"#\" class=\"ez-toc-pull-right ez-toc-btn ez-toc-btn-xs ez-toc-btn-default ez-toc-toggle\" aria-label=\"Alternar tabla de contenidos\"><span class=\"ez-toc-js-icon-con\"><span class=\"\"><span class=\"eztoc-hide\" style=\"display:none;\">Toggle<\/span><span class=\"ez-toc-icon-toggle-span\"><svg style=\"fill: #999;color:#999\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\" class=\"list-377408\" width=\"20px\" height=\"20px\" viewBox=\"0 0 24 24\" fill=\"none\"><path d=\"M6 6H4v2h2V6zm14 0H8v2h12V6zM4 11h2v2H4v-2zm16 0H8v2h12v-2zM4 16h2v2H4v-2zm16 0H8v2h12v-2z\" fill=\"currentColor\"><\/path><\/svg><svg style=\"fill: #999;color:#999\" class=\"arrow-unsorted-368013\" xmlns=\"http:\/\/www.w3.org\/2000\/svg\" width=\"10px\" height=\"10px\" viewBox=\"0 0 24 24\" version=\"1.2\" baseProfile=\"tiny\"><path d=\"M18.2 9.3l-6.2-6.3-6.2 6.3c-.2.2-.3.4-.3.7s.1.5.3.7c.2.2.4.3.7.3h11c.3 0 .5-.1.7-.3.2-.2.3-.5.3-.7s-.1-.5-.3-.7zM5.8 14.7l6.2 6.3 6.2-6.3c.2-.2.3-.5.3-.7s-.1-.5-.3-.7c-.2-.2-.4-.3-.7-.3h-11c-.3 0-.5.1-.7.3-.2.2-.3.5-.3.7s.1.5.3.7z\"\/><\/svg><\/span><\/span><\/span><\/a><\/span><\/div>\n<nav><ul class='ez-toc-list ez-toc-list-level-1 ' ><li class='ez-toc-page-1 ez-toc-heading-level-2'><a class=\"ez-toc-link ez-toc-heading-1\" href=\"https:\/\/enfoquenoticioso.com\/?p=44604\/#Los_laseres_BAT_estan_casi_listos_para_revolucionar_la_litografia\" >Los l\u00e1seres BAT est\u00e1n casi listos para revolucionar la litograf\u00eda<\/a><\/li><\/ul><\/nav><\/div>\n<h2><span class=\"ez-toc-section\" id=\"Los_laseres_BAT_estan_casi_listos_para_revolucionar_la_litografia\"><\/span>Los l\u00e1seres BAT est\u00e1n casi listos para revolucionar la litograf\u00eda<span class=\"ez-toc-section-end\"><\/span><\/h2>\n<p>El LLNL <a rel=\"noopener, noreferrer\" href=\"https:\/\/www.llnl.gov\/article\/52226\/llnl-selected-lead-next-gen-extreme-ultraviolet-lithography-research\" target=\"_blank\">lidera un proyecto de investigaci\u00f3n<\/a> que persigue afianzar los principios tecnol\u00f3gicos que emplear\u00e1 la pr\u00f3xima generaci\u00f3n de m\u00e1quinas de litograf\u00eda. Su coraz\u00f3n es un l\u00e1ser muy avanzado conocido como BAT (<em>Big Aperture Thulium<\/em>) que utiliza fluoruro de litio \u00a0y tulio dopado como sistema de ganancia para incrementar la potencia y la intensidad de los haces l\u00e1ser. En los equipos de litograf\u00eda UVE los l\u00e1seres de alta potencia calientan instant\u00e1neamente decenas de miles de diminutas gotas de esta\u00f1o en un solo segundo hasta que alcanzan una temperatura de medio mill\u00f3n de grados Celsius.<\/p>\n<p><!-- BREAK 3 --> <\/p>\n<div class=\"article-asset article-asset-normal article-asset-center\">\n<div class=\"desvio-container\">\n<div class=\"desvio\">\n<div class=\"desvio-figure js-desvio-figure\">\n    <a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/investigacion\/grafeno-esta-listo-para-irrumpir-ordenadores-cuanticos-cientificos-planean-usarlo-nuevo-tipo-cubit\" class=\"pivot-outboundlink\" data-vars-post-title=\"El grafeno est\u00e1 listo para irrumpir en los ordenadores cu\u00e1nticos: los cient\u00edficos planean usarlo en un nuevo tipo de c\u00fabit\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\"><br \/>\n     <img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" alt=\"El grafeno est\u00e1 listo para irrumpir en los ordenadores cu\u00e1nticos: los cient\u00edficos planean usarlo en un nuevo tipo de c\u00fabit\" width=\"375\" height=\"142\" src=\"https:\/\/i.blogs.es\/3d8c7a\/grafeno-ap\/375_142.jpeg\"\/><br \/>\n    <\/a>\n   <\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/div>\n<div class=\"article-asset-summary article-asset-small article-asset-right\">\n<div class=\"asset-content\">\n<p class=\"sumario_derecha\">El LLNL pretende demostrar que los l\u00e1seres BAT son mucho m\u00e1s eficientes desde un punto de vista energ\u00e9tico que los l\u00e1seres empleados actualmente<\/p>\n<\/p><\/div>\n<\/div>\n<p>Esta interacci\u00f3n produce un plasma extremadamente caliente que emite luz ultravioleta con una longitud de onda de 13,5 nm. Esta luz posteriormente debe ser transportada hasta la oblea gracias a un sistema de espejos y lentes muy preciso con el prop\u00f3sito de <strong>plasmar los patrones<\/strong> que definen los circuitos integrados sobre una capa de fotorresina. Muy a grandes rasgos esta es la estrategia que utilizan las m\u00e1quinas de fabricaci\u00f3n de semiconductores m\u00e1s avanzadas que existen actualmente. Y, como acabamos de ver, los l\u00e1seres de alta potencia interpretan un papel indiscutiblemente protagonista.<\/p>\n<p><!-- BREAK 4 --><\/p>\n<p>El plan del LLNL sobre el papel es muy atractivo. Y es que pretende demostrar que los l\u00e1seres BAT son mucho m\u00e1s eficientes desde un punto de vista energ\u00e9tico que los l\u00e1seres empleados actualmente en <a class=\"text-outboundlink\" href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/asml-tiene-mejor-equipo-litografia-mercado-eso-caro-que-fabricantes-chips-van-a-sufrir\" data-vars-post-title=\"ASML tiene el mejor equipo de litograf\u00eda del mercado. Eso s\u00ed, es tan caro que los fabricantes de chips van a sufrir\" data-vars-post-url=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/asml-tiene-mejor-equipo-litografia-mercado-eso-caro-que-fabricantes-chips-van-a-sufrir\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">los equipos de litograf\u00eda UVE<\/a>. Y, adem\u00e1s, sus propiedades deber\u00edan permitir a las m\u00e1quinas que presumiblemente los utilizar\u00e1n en el futuro producir circuitos integrados mucho m\u00e1s ambiciosos que los chips actuales. Estas mejoras se sostienen sobre una caracter\u00edstica muy interesante de los l\u00e1seres BAT: la longitud de onda del fluoruro de litio y tulio dopado es de unos 2 micrones.<\/p>\n<p><!-- BREAK 5 --><\/p>\n<p>En teor\u00eda un futuro equipo de litograf\u00eda equipado con l\u00e1seres BAT y el sistema \u00f3ptico adecuado podr\u00eda ser capaz de fabricar semiconductores de menos de 1 nm. Esto significa, sencillamente, que esa m\u00e1quina ser\u00e1 mucho m\u00e1s avanzada que el equipo de <a class=\"text-outboundlink\" href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/nuevo-equipo-litografia-asml-divide-a-fabricantes-chips-tsmc-se-plantea-no-usarlo-2030\" data-vars-post-title=\"El nuevo equipo de litograf\u00eda de ASML divide a los fabricantes de chips. TSMC se plantea no usarlo hasta 2030\" data-vars-post-url=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/nuevo-equipo-litografia-asml-divide-a-fabricantes-chips-tsmc-se-plantea-no-usarlo-2030\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">litograf\u00eda UVE de alta apertura<\/a> en el que hemos indagado brevemente en las primeras l\u00edneas de este art\u00edculo. Como veis, suena muy bien. No obstante, un proyecto de esta envergadura <strong>requiere invertir muchos a\u00f1os en investigaci\u00f3n<\/strong>, por lo que es poco probable que un equipo con estas caracter\u00edsticas est\u00e9 listo en menos de una d\u00e9cada. De hecho, ASML y sus colaboradores invirtieron m\u00e1s de dos d\u00e9cadas en el desarrollo de <a class=\"text-outboundlink\" href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/que-podemos-esperar-maquina-litografia-avanzada-mundo-que-asml-acaba-entregar-a-intel\" data-vars-post-title=\"Qu\u00e9 podemos esperar de la m\u00e1quina de litograf\u00eda m\u00e1s avanzada del mundo que ASML acaba de entregar a Intel\" data-vars-post-url=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/que-podemos-esperar-maquina-litografia-avanzada-mundo-que-asml-acaba-entregar-a-intel\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">las primeras m\u00e1quinas de litograf\u00eda UVE<\/a>.<\/p>\n<p><!-- BREAK 6 --> <\/p>\n<p>Imagen | <a rel=\"noopener, noreferrer\" href=\"https:\/\/www.llnl.gov\/article\/52226\/llnl-selected-lead-next-gen-extreme-ultraviolet-lithography-research\" target=\"_blank\">LLNL<\/a><\/p>\n<p>M\u00e1s informaci\u00f3n | <a rel=\"noopener, noreferrer\" href=\"https:\/\/www.llnl.gov\/article\/52226\/llnl-selected-lead-next-gen-extreme-ultraviolet-lithography-research\" target=\"_blank\">LLNL<\/a><\/p>\n<p>En Xataka | <a class=\"text-outboundlink\" href=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/nuevo-equipo-litografia-asml-divide-a-fabricantes-chips-tsmc-se-plantea-no-usarlo-2030\" data-vars-post-title=\"El nuevo equipo de litograf\u00eda de ASML divide a los fabricantes de chips. TSMC se plantea no usarlo hasta 2030\" data-vars-post-url=\"https:\/\/www.xataka.com\/empresas-y-economia\/nuevo-equipo-litografia-asml-divide-a-fabricantes-chips-tsmc-se-plantea-no-usarlo-2030\" target=\"_blank\" rel=\"noopener\">El nuevo equipo de litograf\u00eda de ASML divide a los fabricantes de chips. TSMC se plantea no usarlo hasta 2030<\/a><\/p>\n<\/p><\/div>\n<p><a href=\"https:\/\/www.xataka.com\/investigacion\/sabemos-como-sera-proxima-generacion-equipos-litografia-pondra-nuestras-manos-chips-que-ahora-inconcebibles\" class=\" target=\" title=\"Ya sabemos c\u00f3mo ser\u00e1 la pr\u00f3xima generaci\u00f3n de equipos de litograf\u00eda. 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